在半导体产业供应链中，光刻胶是关键的核心材料之一，其品质直接关系到芯片制造的精度与合格率。光刻胶生产对环境极为苛刻，温湿度的微小波动都会直接影响产品性能。上海艾深斯在建设研发与中试生产线时，面临核心挑战：如何在上海复杂气候条件下，实现极端稳定、精准的温湿度控制，并兼顾节能与人员舒适。
一、维克定制化解决方案
维克提供的定制化解决方案，以高可靠性为核心，确保了生产环境的精密控制与稳定运行。
高可靠温湿度控制基础
方案采用高效风冷热泵模块机组
作为核心冷热源
机组采用国际知名品牌核心部件
具有宽工况运行能力
能确保全年冷热源的稳定输出
为系统奠定坚实基础
高效应对过渡季节 实现精准恒温恒湿
方案的亮点在于配置了
“四管制”风冷热泵机组
其核心价值在于大幅提升系统在
春季、秋季等过渡季节的利用率与能效
该系统能够根据复杂的环境负荷变化
灵活、同步地提供制冷或制热
精确抵消外部温湿度波动
从而以更高的能效和响应速度
确保生产空间持续满足严苛的恒温恒湿要求
深度除湿与节能兼顾
为满足持续的低湿工艺需求
方案采用变频直膨式深度除湿机组
该技术可根据室外气象条件自动调节
在保证人员舒适新风的前提下
高效、精准地将室内湿度控制在工艺设定
低位运行能效显著高于传统方案
该方案已稳定运行
成功为艾深斯光刻胶研发与生产
提供了高精度、超稳定的温湿度环境
有力保障了产品质量与研发效率
同时，系统通过设备高效选型与变频调节
实现了精密控制与节能运行的平衡
未来，维克将继续以专业的环境控制解决方案
助力更多高端制造企业攻克关键工艺难关
实现高质量发展
